無塵凈化車間室內(nèi)的溫濕度控制

    無塵凈化車間空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定堤器，但在滿足工藝要求的條件下锣裆，應(yīng)考慮到人的舒適度感自畔。隨著空氣無塵凈化車間度要求的提高噪芭，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢(shì)涝露。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看楞艾，由于加工精度越來越精細(xì)参咙，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。

    例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中硫眯，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小蕴侧。直徑100 um的硅片，溫度上升1度两入，就引起了0.24um線性膨脹净宵，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低裹纳，因?yàn)槿顺龊挂院笤衿希瑢?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度敏储，濕度過高產(chǎn)生的問題更多阻星。相對(duì)濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露已添，如果發(fā)生在精密裝置或電路中妥箕，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹鹰觅。

    此外涮婿，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉烙欧，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)很洽，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿耙侵。對(duì)于硅片生產(chǎn)最佳濕度范圍為35—45%。